钽靶

一、钽靶简介

1. 牌号:RO5200，RO5400

2. 纯度：≥99.95%

3. 工艺：冷轧，酸洗，剪切而成

4. 技术条件：符合GB3269-83(钽及钽合金板材、带材和箔材)，

5.标准：

GB/T3628-1995(钽及钽合金箔材)，

ASTM B708-92(钽和钽合金中厚板、薄板、带材和箔材)

 

二、钽材应用领域

1.        主要用于镀膜工艺，以及在航空、航天工业、医疗器械等领域。

2.        可用来制造蒸发器皿等，

3.        电子管的电极、整流器、电解电容。

4.        医疗上用来制成薄片或细线，缝补破坏的组织。

5.        钽被制造成了电容装备到军用设备中。

 

三、钽靶牌号、状态和规格见表1：

牌号

供应状态

规格(mm)

品种

厚度

宽度

长度

Ta1

Ta2

R05200

R05400

R05255(Ta10W)

R05252(Ta2.5W)

Ta7.5W

硬状态(Y)

0.025～0.09

<150

>200

箔材

硬状态(Y)

软状态(M)

0.1～0.5

50～300

100～2000

带材

板材

>0.5～2.0

50～500

50～1200

板材

>2.0～6.0

50～500

50～1200

 厚度、宽度、长度及允许偏差见表2：

表2                                                    单位：mm

厚度

厚度允许偏差

宽度

宽度允许偏差

长度

长度允许偏差

Ⅰ级

Ⅱ级

0.025～0.07

±0.005

±0.006

70～150

±2.0

≥1000

—

>0.07～0.09

±0.006

±0.008

70～150

±2.0

≥1000

—

0.1～0.20

±0.015

±0.02

50～300

±2.0

100～2000

±3.0

>0.2～0.30

±0.02

±0.03

50～300

±2.0

100～2000

±3.0

>0.30～0.50

±0.03

±0.04

50～500

±2.0

100～2000

±3.0

>0.50～0.80

±0.04

±0.06

50～500

±2.0

50～1200

±3.0

>0.80～1.0

±0.06

±0.08

50～500

±2.0

50～1200

±3.0

>1.0～1.5

±0.08

±0.10

50～500

±3.0

50～1200

±4.0

>1.5～2.0

±0.12

±0.14

50～500

±3.0

50～1200

±4.0

>2.0～3.0

±0.16

±0.18

50～500

±5.0

50～1200

±5.0

>3.0～4.0

±0.18

±0.20

50～500

±5.0

50～1200

±5.0

>4.0～6.0

±0.12

±0.24

50～500

±5.0

50～1200

±5.0

>6.0～30.0

±0.24

±0.50

50～500

±5

50～1200

±5.0


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